1、曝光量=照度×时间2、照度由光圈决定，而时间由快门控制。光圈大小与快门长短决定了曝光量的多少。因此，曝光量由光圈和快门共同控制。3、在理想情况下，曝光剂量是一个固定参数，整个硅片都受到均匀一致的光辐照。但在实际生产中，曝光机光源的能量可能会受到外界因素的影响而变化。4、剂量均匀的紫外光对光刻胶的曝光是非常关键的，光学光刻中的曝光控制是通过使用剂量监控器在硅片表面测量紫外光强所获得的。曝光剂量在
1、左右目镜分别旋转调节。 即左右眼分别对远处目标观察, 分别旋转左右目镜至目标最清晰为止。2、中调机构和旋转右目镜来调节。使用这种调节机构的方法是：第一步选择1000米左右一个清晰的目标, 先通过调节中间手轮使左眼看清目标, 第二步旋转右目镜使右眼看清同一目标, 通过这两个步骤, 可把使用人的视力缺陷补偿正确, 以后对不同距离景物观察只需要旋转中间手轮即可。望远镜的这种视度调节, 一般也称“距离
